X射线膜厚测试机开放的校准模式
点击次数:1443 发布时间:2017-12-25
X射线膜厚测试机开放的校准模式
X射线膜厚测试机X射线采用从上至下的照射方式,即使是表面高低不一的样品也可以正确测量。反之,如果是从下至上的照射方式,遇到表面凹凸的样品,无法调整Z轴距离,导致测量光程的变化,引起测量的误差。例如(举例不同距离导致的误差数据)。
开放的校准模式,用户可自行建立校准曲线不受仪器厂家限制。
X射线膜厚测试机测量原理:
采用激光测量位移差的方式,测量薄膜在一定张力下的表面平整度,并根据设定规则自动识别坏品。张力测量模块由一个激光位移传感器、驱动机构组成。通过可调张力张紧薄膜被测物后,驱动机构带动位移传感器横向来回扫描,得到膜片横向的高度差,根据转换关系转换成张力均匀性差异。
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主营产品介绍:X光镀层测厚仪、韩国XRF2000电镀层测厚仪、PCB孔铜测厚仪,特性阻抗检测仪,